PVD 镀膜材料 / 溅射靶材
金属钇靶
产品规格
| 产品名称 | 金属钇靶 |
|---|---|
| 产品线 | PVD 镀膜材料 |
| 产品类别 | 溅射靶材 |
| 化学式 / 成分 | Y |
| 纯度 | Y/TREM:99.9%~99.99% |
| 标准尺寸 | 圆靶直径 < 350mm;矩形靶宽度 < 240mm;矩形靶长度 < 550mm;Tube Target OD < 300mm |
| 包装 | 真空包装 |
| 定制 | 是 |
产品特点
圆形，方形或旋转靶，可绑定
应用领域
半导体芯片的高k栅介质/铁电存储介质，扩散阻挡/缓冲层，腔体防护涂层，YBCO高温超导缓冲层，显示面板镀膜，共溅射制备YSZ（氧化钇稳定氧化锆）电解质薄膜，高纯钇氧化后形成高折射率Y₂O₃膜层，高温热障底层膜，耐腐蚀阻隔膜。
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