我们的事业

用材料为世界赋能

Advanced materials enabling aerospace, semiconductor, and energy applications

从材料,到生活

我们每天都在使用材料创造的性能。被点亮的屏幕、高速运行的芯片、精密的镜头, 以及强劲而稳定的磁体,都始于对材料的理解与控制。

我们看到的是产品;而在产品背后,是一层肉眼难以分辨的薄膜、一种经过精确控制的金属, 或是一份决定最终性能的高纯材料。中锡金属关注的,正是材料转化为性能的过程。

PVD coating materials and sputtering targets

从靶材,到功能薄膜

在真空腔体中,等离子体里的离子轰击靶材表面。靶材中的原子被释放,穿过真空环境, 在玻璃、晶圆或其他基底上重新排列,形成纳米到微米尺度的功能薄膜。

这些薄膜可以成为显示面板中的透明导电层、电极层或功能层;进入半导体器件形成导电、 阻挡、介质或功能结构;也可以成为光学器件上的增透膜、反射膜、滤光膜或磁性薄膜。

High-purity and rare-earth metals

材料性能,从纯度开始

在先进制造中,金属里极其微量的杂质,也可能影响导电性、磁性能、光学特性以及薄膜沉积的一致性。 高纯金属经过熔炼、提纯、加工与成形,成为靶材、蒸发材料和先进合金的重要基础。

钕、镨、钐、铽、镝等稀土金属,可以进入高性能磁体和特种合金,为新能源汽车驱动电机、 风力发电机、工业机器人、精密传感器和智能设备提供动力、效率与控制精度。

CVD coating materials and high-purity chlorides

控制光,也控制化学反应

稀土氟化物等高纯氟化物具有独特的透光范围、折射率和光学性能,可用于光学镀膜、 红外光学、激光晶体及发光材料。形成薄膜后,它们能够减少反射、提高特定波段的透过率, 或选择性地反射和过滤光线。

稀土氯化物及其他高纯无水氯化物,可作为光学晶体和功能材料的原料、掺杂源或助熔体系组分。 在半导体 CVD 等气相沉积工艺中,特定氯化物还可以作为反应原料或前驱体,形成均匀、致密的精密薄膜。

Advanced materials supporting energy, transportation, communication, and future cities

让材料进入工艺,让性能服务世界

纯度、成分、组织、粒度、形态与工艺适配性,共同决定材料能否转化为稳定可靠的性能。 因此,我们关注的不只是一种元素或一件产品,而是材料如何进入工艺,工艺如何形成性能, 性能又如何服务于真实世界。

我们围绕靶材、稀土金属、高纯金属、氯化物、氟化物及功能粉末,服务于显示、半导体、 光学、磁性材料和先进制造领域。材料不断改变形态,科技也因此不断拓展边界。

Viilaa

连接先进材料与先进制造。

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