PVD 코팅 소재 / 스퍼터링 타깃
이트륨 금속 타깃
제품 사양
| 제품명 | 이트륨 금속 타깃 |
|---|---|
| 제품군 | PVD 코팅 소재 |
| 카테고리 | 스퍼터링 타깃 |
| 화학식 / 조성 | Y |
| 순도 | Y/TREM:99.9%~99.99% |
| 표준 규격 | 원형 타깃 직경 < 350mm;사각 타깃 폭 < 240mm;사각 타깃 길이 < 550mm;Tube Target OD < 300mm |
| 포장 | 진공 포장 |
| 맞춤 제작 | 예 |
제품 특징
원형, 정사각형 또는 회전 대상, 바인딩 가능
적용 분야
반도체 칩 high-k 게이트 유전체 및 강유전체 메모리 매체, 확산 장벽 및 버퍼층, 챔버 보호 코팅, YBCO 고온 초전도 버퍼층, 디스플레이 패널 코팅, 공동 스퍼터링 YSZ 전해질 필름, 고순도 이트륨을 산화하여 형성된 고굴절률 Y2O3 필름, 고온 열 장벽 하층 및 내식성 장벽에 사용됩니다. 영화.
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