PVD 镀膜材料 / 溅射靶材
金属钪靶
产品规格
| 产品名称 | 金属钪靶 |
|---|---|
| 产品线 | PVD 镀膜材料 |
| 产品类别 | 溅射靶材 |
| 化学式 / 成分 | Sc |
| 纯度 | 99.95%~99.99% |
| 标准尺寸 | 圆靶直径 < 350mm;矩形靶宽度 < 240mm;矩形靶长度 < 550mm;Tube Target OD < 300mm |
| 包装 | 真空包装 |
| 定制 | 是 |
产品特点
圆形，方形或旋转靶，可绑定
应用领域
与铝靶共溅射制备ScAlN 氮化铝钪压电薄膜，压电系数远高于纯AlN，用于BAW、SAW射频滤波器、射频 MEMS传感器，拓宽通信带宽、提升信号滤波性能，是手机、基站射频前端核心镀膜材料；也用于超声换能器、物联网振动能量采集器件。
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