PVD 镀膜材料 / 溅射靶材
金属铝靶
产品规格
| 产品名称 | 金属铝靶 |
|---|---|
| 产品线 | PVD 镀膜材料 |
| 产品类别 | 溅射靶材 |
| 化学式 / 成分 | Al |
| 纯度 | 99.99%~99.999% |
| 标准尺寸 | 圆靶直径 < 350mm;矩形靶宽度 < 240mm;矩形靶长度 < 550mm;Tube Target OD < 300mm |
| 包装 | 真空包装 |
| 定制 | 是 |
产品特点
圆形，方形或旋转靶，可绑定
应用领域
高纯铝溅射靶材大量用于显示面板TFT金属布线、OLED像素反射电极，同时是成熟制程半导体铝互连、晶圆键合铝垫核心耗材。还用于薄膜光伏背反射层、装饰镜面镀膜、电磁屏蔽及Low-E节能玻璃光学薄膜沉积。与钪靶共溅射制备ScAlN 氮化铝钪压电薄膜
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