PVD 镀膜材料 / 溅射靶材
铝钪合金靶
产品规格
| 产品名称 | 铝钪合金靶 |
|---|---|
| 产品线 | PVD 镀膜材料 |
| 产品类别 | 溅射靶材 |
| 化学式 / 成分 | Al-Sc |
| 纯度 | 99.9%~99.99% |
| 标准尺寸 | 圆靶直径 < 350mm;矩形靶宽度 < 240mm;矩形靶长度 < 550mm |
| 包装 | 真空包装 |
| 定制 | 是 |
产品特点
圆形，可绑定
应用领域
高纯铝钪合金溅射靶材核心用于反应溅射制备 5G/6G射频AlScN压电薄膜，是手机、基站BAW 滤波器刚需耗材，同时作为IGZO显示背板掺杂层、铁电存储薄膜材料。 还可沉积半导体功率器件缓冲层、光伏钝化膜、航空耐高温防护镀层，广泛覆盖射频通信、先进存储、高端显示与新能源薄膜研发。
询价清单