PVD 镀膜材料 / 溅射靶材
金属镱靶
产品规格
| 产品名称 | 金属镱靶 |
|---|---|
| 产品线 | PVD 镀膜材料 |
| 产品类别 | 溅射靶材 |
| 化学式 / 成分 | Yb |
| 纯度 | Yb/TREM:99.99%~99.995% |
| 标准尺寸 | 圆靶直径 < 350mm;矩形靶宽度 < 240mm;矩形靶长度 < 550mm;Tube Target OD < 300mm |
| 包装 | 真空包装 |
| 定制 | 是 |
产品特点
圆形，方形或旋转靶，可绑定
应用领域
高纯金属镱溅射靶材核心用于 OLED 柔性屏电子注入层（EIL）、复合阴极与叠层电荷产生层，降低屏幕功耗、提升亮度并延长折叠屏使用寿命，同时适配 Mini/Micro LED 像素界面镀膜。 也用于先进半导体欧姆接触层、MRAM 磁性存储膜、光通信激光增益薄膜与钙钛矿光伏缓冲层，广泛覆盖红外光学、量子计算、超导等前沿镀膜研发。
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