PVD 镀膜材料 / 溅射靶材
金属钛靶材
产品规格
| 产品名称 | 金属钛靶材 |
|---|---|
| 产品线 | PVD 镀膜材料 |
| 产品类别 | 溅射靶材 |
| 化学式 / 成分 | Ti |
| 纯度 | ≥99.9% |
| 标准尺寸 | 圆靶直径 < 350mm;矩形靶宽度 < 240mm;矩形靶长度 < 550mm;Tube Target OD < 300mm |
| 包装 | 真空包装 |
| 定制 | 是 |
产品特点
圆形，方形，可绑定
应用领域
高纯钛溅射靶材主要作为显示面板TFT金属粘附底层、半导体晶圆欧姆接触缓冲层，增强各类金属膜与基底结合力，防止氧化脱落。也广泛用于光伏电池缓冲膜、光学耐磨硬膜、五金装饰镀膜、MEMS 传感器结构镀层。
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