PVD 镀膜材料 / 溅射靶材
金属钽靶
产品规格
| 产品名称 | 金属钽靶 |
|---|---|
| 产品线 | PVD 镀膜材料 |
| 产品类别 | 溅射靶材 |
| 化学式 / 成分 | Ta |
| 纯度 | ≥99.99% |
| 标准尺寸 | 圆靶直径 < 350mm;矩形靶宽度 < 240mm;矩形靶长度 < 550mm |
| 包装 | 真空包装 |
| 定制 | 是 |
产品特点
圆形，方形，可绑定
应用领域
高纯钽溅射靶材首要用于半导体铜布线氮化钽扩散阻挡层，同时作为显示TFT金属走线、存储电容电极，保障芯片与面板制程稳定
询价清单
PVD 镀膜材料 / 溅射靶材
| 产品名称 | 金属钽靶 |
|---|---|
| 产品线 | PVD 镀膜材料 |
| 产品类别 | 溅射靶材 |
| 化学式 / 成分 | Ta |
| 纯度 | ≥99.99% |
| 标准尺寸 | 圆靶直径 < 350mm;矩形靶宽度 < 240mm;矩形靶长度 < 550mm |
| 包装 | 真空包装 |
| 定制 | 是 |
圆形，方形，可绑定
高纯钽溅射靶材首要用于半导体铜布线氮化钽扩散阻挡层，同时作为显示TFT金属走线、存储电容电极，保障芯片与面板制程稳定
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