PVD 镀膜材料 / 溅射靶材
镍钒合金靶
产品规格
| 产品名称 | 镍钒合金靶 |
|---|---|
| 产品线 | PVD 镀膜材料 |
| 产品类别 | 溅射靶材 |
| 化学式 / 成分 | Ni-V |
| 纯度 | 99.9%~99.99% |
| 标准尺寸 | 圆靶直径 < 350mm;矩形靶宽度 < 240mm;矩形靶长度 < 550mm |
| 包装 | 真空包装 |
| 定制 | 是 |
产品特点
圆形,方形
应用领域
高纯镍钒合金靶材核心用于半导体先进封装金布线粘附阻挡层、芯片铜互连防扩散衬膜,无磁性适配高速磁控溅射,简化晶圆镀膜工序;同时是 5G射频滤波器电极、显示TFT线路缓冲层主流材料。还可沉积芯片精密薄膜电阻、光伏电池电极阻挡膜、MEMS传感功能层与五金耐磨装饰镀膜。
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