PVD 镀膜材料 / 溅射靶材
金属镍靶
产品规格
| 产品名称 | 金属镍靶 |
|---|---|
| 产品线 | PVD 镀膜材料 |
| 产品类别 | 溅射靶材 |
| 化学式 / 成分 | Ni |
| 纯度 | 99.95%~99.99% |
| 标准尺寸 | 圆靶直径 < 350mm;矩形靶宽度 < 240mm;矩形靶长度 < 550mm;Tube Target OD < 300mm |
| 包装 | 真空包装 |
| 定制 | 是 |
产品特点
圆形，方形，可绑定
应用领域
高纯镍溅射靶材多用于半导体封装凸点阻挡层、磁存储磁性薄膜，同时作为显示、光伏金属电极防扩散缓冲层，抑制金属离子迁移失效。 也用于塑胶五金装饰打底镀膜、电子器件电磁屏蔽、锂电池与燃料电池防腐导电薄膜。
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