PVD 镀膜材料 / 溅射靶材
金属镧靶
产品规格
| 产品名称 | 金属镧靶 |
|---|---|
| 产品线 | PVD 镀膜材料 |
| 产品类别 | 溅射靶材 |
| 化学式 / 成分 | La |
| 纯度 | La/TREM:99.5%~99.99% |
| 标准尺寸 | 圆靶直径 < 350mm;矩形靶宽度 < 240mm;矩形靶长度 < 550mm |
| 包装 | 真空包装 |
| 定制 | 是 |
产品特点
圆形,方形,可绑定
应用领域
高纯金属镧溅射靶材主要用于半导体高 k 栅介质、IGZO显示背板掺杂层、OLED柔性封装阻隔膜,保障先进芯片与高端面板稳定量产。也可制备红外光学镀层、燃料电池钙钛矿薄膜、射线闪烁探测层,广泛用于光伏、射频器件与各类薄膜材料科研开发。
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