Lanthanum Metal Target

Specifications

Product Features

圆形，方形，可绑定

원형, 정사각형, 바인딩 가능

Applications

高纯金属镧溅射靶材主要用于半导体高 k 栅介质、IGZO显示背板掺杂层、OLED柔性封装阻隔膜，保障先进芯片与高端面板稳定量产。也可制备红外光学镀层、燃料电池钙钛矿薄膜、射线闪烁探测层，广泛用于光伏、射频器件与各类薄膜材料科研开发。

High-purity lanthanum sputtering targets are mainly used for semiconductor high-k gate dielectrics, IGZO display backplane dopant layers, and OLED flexible encapsulation barrier films, supporting stable production of advanced chips and high-end panels. They can also be used for infrared optical coatings, fuel-cell perovskite films, scintillation detection layers, photovoltaics, RF devices, and thin-film materials research.

고순도 란타늄 스퍼터링 타깃은 주로 반도체 high-k 게이트 유전체, IGZO 디스플레이 백플레인 도펀트 층 및 OLED 유연한 캡슐화 장벽 필름에 사용되어 고급 칩 및 고급 패널의 안정적인 생산을 지원합니다. 또한 적외선 광학 코팅, 연료 전지 페로브스카이트 필름, 섬광 감지층, 광전지, RF 장치 및 박막 재료 연구에도 사용할 수 있습니다.