PVD 镀膜材料 / 溅射靶材
金属钬靶
产品规格
| 产品名称 | 金属钬靶 |
|---|---|
| 产品线 | PVD 镀膜材料 |
| 产品类别 | 溅射靶材 |
| 化学式 / 成分 | Ho |
| 纯度 | Ho/TREM:99.9%~99.95% |
| 标准尺寸 | 圆靶直径 < 350mm;矩形靶宽度 < 240mm;矩形靶长度 < 550mm;Tube Target OD < 300mm |
| 包装 | 真空包装 |
| 定制 | 是 |
产品特点
圆形，方形或旋转靶，可绑定
应用领域
高纯金属钬溅射靶材核心用于2μm人眼安全激光增益薄膜，医疗/雷达激光增益薄膜，同时作为半导体高 k 介质、IGZO显示背板掺杂层，支撑光电子、先进存储与高端面板制造。还可沉积红外光学镀膜、中子探测屏蔽层、燃料电池电解质薄膜，广泛覆盖磁制冷、超导异质结与量子传感前沿薄膜研发。
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