金属铪靶

产品规格

产品特点

圆形，方形，可绑定

应用领域

高纯金属铪溅射靶材核心用于先进半导体高 k 栅介质、铁电存储薄膜与IGZO显示背板掺杂层，是 5–28nm芯片、高端OLED面板量产刚需耗材。同时可制备红外激光光学镀膜、钙钛矿光伏钝化膜、航空耐高温防护层，也用于核中子屏蔽、射频功率器件与各类前沿薄膜材料研发。