PVD 镀膜材料 / 溅射靶材
铝钪锗钽多元合金靶
产品规格
| 产品名称 | 铝钪锗钽多元合金靶 |
|---|---|
| 产品线 | PVD 镀膜材料 |
| 产品类别 | 溅射靶材 |
| 化学式 / 成分 | Al-Sc-Ge-Ta |
| 纯度 | 99.9%~99.99% |
| 标准尺寸 | 长边 < 2200mm |
| 包装 | 覆膜 |
| 定制 | 是 |
产品特点
方形
应用领域
铝钪锗钽四元合金靶核心用于一步溅射制备 5G 毫米波 AlScGeN 压电薄膜,兼具钽天然扩散阻挡特性,同时作为 IGZO 高端显示背板掺杂、FeRAM 铁电存储复合膜,简化器件膜层工艺堆叠。 还可沉积第三代半导体功率器件缓冲层、钙钛矿光伏钝化电极、航空高温防护镀层,主要用于射频通信、先进存储、高端面板与前沿微电子材料研发。 在显示行业,用于替代铝靶和铝钕靶,解决镀膜时的高温凸起(hilllock)问题,并且是显示面板能适应更高的使用温度场景。
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