PVD 镀膜材料 / 溅射靶材
铝钕合金靶
产品规格
| 产品名称 | 铝钕合金靶 |
|---|---|
| 产品线 | PVD 镀膜材料 |
| 产品类别 | 溅射靶材 |
| 化学式 / 成分 | Al-Nd |
| 纯度 | 99.9%~99.99% |
| 标准尺寸 | 长边 < 2200mm |
| 包装 | 覆膜 |
| 定制 | 是 |
产品特点
方形
应用领域
高纯铝钕合金靶材核心用于显示面板TFT金属布线、OLED反射电极,完美解决纯铝薄膜高温凸起缺陷,同时作为成熟制程半导体铝互连、晶圆焊盘导电层,提升面板与芯片长期可靠性。 还可沉积MRAM磁性存储薄膜、光伏电池背电极、红外光学反射膜、车载磁传感镀层,广泛覆盖柔性电子、第三代半导体与磁性材料研发。
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