PVD 镀膜材料 / 溅射靶材
金属钆靶
产品规格
| 产品名称 | 金属钆靶 |
|---|---|
| 产品线 | PVD 镀膜材料 |
| 产品类别 | 溅射靶材 |
| 化学式 / 成分 | Gd |
| 纯度 | Gd/TREM:99.9%~99.99% |
| 标准尺寸 | 圆靶直径 < 350mm;矩形靶宽度 < 240mm;矩形靶长度 < 550mm;Tube Target OD < 300mm |
| 包装 | 真空包装 |
| 定制 | 是 |
产品特点
圆形，方形或旋转靶，可绑定
应用领域
半导体与自旋存储的MRAM磁随机存储器多层磁性薄膜，高k介质/栅极钝化层，磁传感元器件薄膜。平板显示IGZO氧化物TFT掺杂层，OLED水氧阻隔封装膜，发光与光学辅助镀膜。也可制备红外光学镀膜、中子屏蔽防护层、磁制冷功能膜，同时用于固态能源器件、自旋电子与前沿材料科研镀膜。
询价清单