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PVD Coating Materials / Sputtering Targets

Aluminium Yttrium Alloy Target

钇铝合金靶

Aluminium Yttrium Alloy Target product image

Specifications

Product NameAluminium Yttrium Alloy Target
Chinese Name钇铝合金靶
Product LinePVD Coating Materials
CategorySputtering Targets
Formula / CompositionAl-Y
Purity99.9%~99.99%
Standard SizeRound Target Dia < 350mm;
Rectangular Target Width < 240mm;
Rectangular Target Length < 550mm
Packaging真空包装
Customization

Product Features

圆形,方形

원형, 정사각형

Applications

合适比例的钇铝合金溅射形成YAG膜层,主要用于高端OLED/折叠屏IGZO背板掺杂、柔性 TFE 阻隔膜,同时作为半导体高k介质与扩散阻挡层,支撑高世代面板与先进芯片量产。 还可沉积航空发动机高温热障涂层、核电抗腐蚀防护膜、燃料电池电解质及红外激光光学薄膜,覆盖新能源、特种装备与前沿材料研发。

Yttrium-aluminum alloy targets with suitable compositions can be sputtered to form YAG films, mainly for high-end OLED and foldable-screen IGZO backplane doping and flexible TFE barrier films. They are also used as semiconductor high-k dielectric and diffusion-barrier layers for high-generation panels and advanced chip manufacturing. Additional applications include aerospace engine thermal-barrier coatings, nuclear corrosion-resistant protective films, fuel-cell electrolytes, and infrared laser optical films for new-energy, special-equipment, and advanced-material research.

적절한 조성을 가진 이트륨-알루미늄 합금 타겟은 스퍼터링을 통해 YAG 필름을 형성할 수 있으며, 주로 고급 OLED 및 폴더블 화면 IGZO 백플레인 도핑 및 유연한 TFE 배리어 필름에 사용됩니다. 또한 고급 패널 및 첨단 칩 제조를 위한 반도체 high-k 유전체 및 확산 방지층으로도 사용됩니다. 추가 응용 분야에는 항공우주 엔진 열 차단 코팅, 핵 부식 방지 보호 필름, 연료 전지 전해질 및 신에너지, 특수 장비 및 첨단 재료 연구를 위한 적외선 레이저 광학 필름이 포함됩니다.

RFQ Checklist

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